當(dāng)前標(biāo)簽:導(dǎo)熱石墨膜真空碳化爐
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用途:新型碳化硅材料,碳素材料,導(dǎo)熱石墨膜材料前級(jí)真空負(fù)壓脫焦和中溫碳化處理。◇1600℃的高溫,溫度均勻性≤5℃◇測(cè)溫精度高,控溫精度±1℃◇極限真空度可按照工藝需要設(shè)置◇爐膛氣氛可控,可通丙烯/甲烷/高純氮/氬氣◇