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真空熔煉定向凝固爐的用途及特點

2022-08-30 17:48:46

真空熔煉定向凝固爐的用途及特點

真空熔煉定向凝固爐的用途:

太陽能級硅綻制造,也可以用于其他半導體材料提純。

真空熔煉定向凝固爐的特點:

控制精度高,結晶速度自由調節,采用石盟電阻或感應加熱熔煉法,增加熔液攪拌,熔煉速度快。定向凝固保溫采用特制加熱電源,具有三相電流平衡,維護費用低,采用恒溫度控制儀,可設置148段加熱工藝曲線,爐室采用高真空爐體,真空度高,抽氣速度快。

真空熔煉定向凝固爐的用途及特點

多晶硅定向凝固爐主要技術參數:

熔煉容量:10-450KG

電源功率:40-450KW

設計溫度:1700°C

工作溫度:1550°C

升溫速率:40°C/Min

爐溫均勻性:+5C

極限真空度:6.67x10-2Pa

壓升率:0.01PaL/S

額定充氣壓力:0.05Mpa

鑄錠方式:坩堝下降/保溫桶提升定向凝固

同服控制范圍:0.01mm-6mm/Min

定向凝固速率:0.01mm-0.5mm/Min

坩場快速返回速度:80-100mm/Min


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