真空熔煉定向凝固爐的用途及特點
真空熔煉定向凝固爐的用途:
太陽能級硅綻制造,也可以用于其他半導體材料提純。
真空熔煉定向凝固爐的特點:
控制精度高,結晶速度自由調節,采用石盟電阻或感應加熱熔煉法,增加熔液攪拌,熔煉速度快。定向凝固保溫采用特制加熱電源,具有三相電流平衡,維護費用低,采用恒溫度控制儀,可設置148段加熱工藝曲線,爐室采用高真空爐體,真空度高,抽氣速度快。
多晶硅定向凝固爐主要技術參數:
熔煉容量:10-450KG
電源功率:40-450KW
設計溫度:1700°C
工作溫度:1550°C
升溫速率:40°C/Min
爐溫均勻性:+5C
極限真空度:6.67x10-2Pa
壓升率:0.01PaL/S
額定充氣壓力:0.05Mpa
鑄錠方式:坩堝下降/保溫桶提升定向凝固
同服控制范圍:0.01mm-6mm/Min
定向凝固速率:0.01mm-0.5mm/Min
坩場快速返回速度:80-100mm/Min